俄罗斯造出150nm光刻机！

据俄罗斯科技媒体 CNews 报道，俄罗斯已建成一套电子束光刻设备，可用于制作光掩模，也可在不使用掩模的情况下在衬底上形成图形。该设备设计规范为150纳米，由绿城纳米技术中心研制，目前样机正在试验中。

（AI 示意图）

光刻设备

据CNews了解，股份公司“绿城纳米技术中心”（ЗНТЦ）研制出设计规范为150纳米的电子束光刻设备。样机已经制成，消息来自其运输招标——该招标于2026年6月发布。

该设备用于无掩模光刻——制作光掩模，以及在硅及其他衬底上、不使用掩模的情况下形成图形。

据文件显示，绿城纳米技术中心正在为交付“设计规范150纳米的电子束光刻设备样机”寻找承运方，该项工作属试验设计工作（ОКР），代号为“Прогресс ЭЛЛ 150”（Progress ELL 150）。发运地为绿城（Зеленоград），目的地未公开。

但绿城纳米技术中心总经理阿纳托利·科瓦廖夫（Анатолий Ковалев）向CNews表示，该设备将运往距绿城约2000公里处。

科瓦廖夫向CNews介绍说：“目前两台样机正在进行综合试验，试验将持续约四个月。之后将开始图像精度及其他工艺参数方面的试验。”

这是什么设备

这里所说的，是电子束光刻设备的研制，以及在光掩模上形成集成电路拓扑单元、设计规范为150纳米的基础工艺过程。

该设备的关键特点是无掩模光刻。与通过光掩模转移图形的光学光刻不同，电子束光刻借助聚焦电子束直接在衬底上形成图像。这样既可以制作光掩模，也可以在硅及其他衬底上不使用掩模直接成图，对试产批次、原型样机和专用芯片的生产至关重要。

该研制在国家计划《俄罗斯联邦科学技术发展》框架下推进。

优点与缺点

一家微电子企业负责人向CNews介绍说：“在无掩模模式（直接写入）下，电子束就像极细的笔，直接在涂有光刻胶的晶圆上绘制芯片图形。对科研开发和原型验证来说，灵活、快捷，可以快速改图，不必再做昂贵的光掩模。但对量产来说太慢了。”

据他介绍，这类设备适合航天或国防工业等专用电子元器件（ЭКБ）的小批量生产——每个订单都做昂贵掩模在经济上不划算。

光掩模是电子束光刻过程的最终产品。电子束光刻设备把未来芯片的基准图形画在掩模坯件上。这张光掩模（带不透明薄膜图形的玻璃板）随后在光学光刻机中充当“模板”，把图像快速转移到成千上万片硅晶圆上，他继续说。

该专家认为，关键问题包括：缺少能够掌握65纳米以下生产的本国工程队伍；缺少90纳米以下工艺所需的光刻胶；缺少元器件基础以及关键解决方案，例如防止“邻近效应”所需的超精密激光干涉仪和加热控制系统；还缺少像中国由国家组织科研院所对世界领先设备做公关的国家战略。

独立专家、Telegram频道RUSmicro作者阿列克谢·博伊科（Алексей Бойко）向CNews表示：“自有电子束光刻机对俄罗斯很有现实意义，因为我国市场芯片订单量通常不大。也就是说，这类设备比较适合小批量生产——可以直接‘画’芯片，不必为不菲的掩模花钱。这些设备对原型验证和研发也很方便，能加快开发与研究进度。”

博伊科还指出：“此外，这类光刻机也可用于为成熟光学光刻工艺制作掩模。说到难点，就要提到如何在整片晶圆上保证图形均匀性——这需要仔细的计量检测和高质量的束流控制。还需要电子束敏感的抗蚀剂，其对质量要求也不低。”

绿城纳米技术中心以何著称

绿城纳米技术中心是俄罗斯微电子及其生产设备的研发与制造商。

CNews此前报道，绿城纳米技术中心还研制过分辨率350纳米的光学光刻机，并已移交给“行业解决方案”公司（Отраслевые решения，隶属Element集团）。在2025年9月的“微电子2025”论坛上，绿城纳米技术中心总经理阿纳托利·科瓦廖夫表示，已形成扎实基础，可以着手研制完全国产化的90纳米设备。目前则在推进130纳米设备的工作。

文章来源：EETOP

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