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近期,市场研究机构Yole Group发布了年度报告《Power GaN 2026》,对功率氮化镓(GaN)半导体产业的市场、生态、供应链和技术进行了全面分析。
2031年功率GaN市场将达35亿美元,电信与基础设施领域增速最快
报告指出,过去数年功率GaN主要在消费级快充充电器领域完成技术验证,但这一阶段即将落幕。GaN正在进入更广泛的多市场应用周期,AI数据中心、电动汽车、工业系统和可再生能源均成为重要需求驱动力。
Yole预计,2025年至2031年,全球功率GaN器件市场将以约35%的年复合增长率(CAGR)持续扩张,到2031年达到约35亿美元。作为参照,2025年全球功率GaN器件市场规模约为5.88亿美元,同比增长约63%,显示市场已经进入明显的加速增长阶段。
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从具体细分应用市场来看,消费及移动电子仍是市场基本盘,受益于快充充电器与家电产品持续普及,该板块2031年预计达到17亿美元,占整体市场近50%。
但增长势头最为迅猛的,是汽车与基础设施两大领域:汽车领域(车载充电机、48V架构)将保持 57% 的年复合增长率;电信与基础设施(AI数据中心供电)将保持 45% 的年复合增长率,2031年市场规模将达7.5亿美元。
Yole Group化合物半导体技术与市场分析师Roy Dagher博士表示:“多年来,功率GaN几乎就等于口袋里的手机充电器。但如今局面已完全不同。AI基础设施正在为这项技术开启第二个、甚至规模更大的发展篇章,并且发展速度极快。”
报告还指出,人形机器人有望成为2030年之后又一大潜在增长引擎。人形机器人平台的执行器驱动与电池管理系统,都要求在严苛的重量与散热约束下实现高功率密度——这正是GaN高效率、小体积优势能够充分发挥的场景。但目前该领域出货量很小,但如果人形机器人在2030年代实现商业化规模化落地,将形成区别于消费电子、汽车、数据中心的全新需求池。
英诺赛科稳居第一,英飞凌升至第二
从2025年GaN市场竞争格局来看,根据Yole报告显示,中国氮化镓巨头英诺赛科(Innoscience)以31%的市场份额位居行业首位,并持续向汽车、数据中心市场拓展业务版图。
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英飞凌(Infineon)以16%的市场份额升至第二,主要受益于数据中心与可再生能源项目上的斩获;Power Integrations以14%的市场份额位居第三。
作为对比,2024年,英诺赛科以30%的市场份额位居榜首;纳微半导体(Navitas) 以17%的市场份额位居第二;Power Integrations以15.2%的市场份额位居第三;EPC以13.5%的市场份额位居第四;英飞凌以11.2%的市场份额位居第五。
虽然Yole此次仅公布了2025年氮化镓市场前三名的市场份额,但是相关分析显示纳微半导体跌出前三,是因为该公司正逐步将战略重心从传统消费电子快充转向AI数据中心、汽车及能源等更高价值应用领域。
此外,安森美(onsemi) 也是最重要的新晋参与者:该公司2025年12月宣布与格芯(GlobalFoundries)合作,基于200毫米硅基氮化镓平台开发650V器件;同年12月,安森美又宣布与英诺赛科达成合作,探索采用其200mm GaN-on-Si晶圆制造能力,并计划于2026年上半年开始送样。
除了头部厂商之外,瑞萨电子、罗姆(ROHM)、德州仪器(TI)、意法半导体(STMicroelectronics)、安世半导体(Nexperia),以及GaNext、南芯半导体(Southchip)等国内厂商组成快速崛起的第二梯队。
GaN技术持续向高压延伸
目前电压等级正在从消费电子的100V/650V体系向更高电压延伸。过去GaN最大的市场是手机/PC快充这类低至中功率的100V/650V级器件。而现在随着AI基础设施建设的持续爆发,需求开始向:650V → 1200V → 1500V → 1700V甚至2200V推进。GaN产业正在从“低压高频快充器件”向“高压高功率电源器件”演进。
功率GaN市场目前的核心仍然是GaN-on-Si,因为它具有:200mm晶圆兼容性;成本优势;CMOS/硅工艺基础更适合规模化制造。但随着电压不断提升,器件的外延结构、缺陷控制、动态导通电阻、栅极可靠性、击穿电压、热管理、封装都会成为关键问题。
因此未来的竞争不只是“谁能做GaN”,而是谁能把GaN的耐压、可靠性、频率、导通损耗和制造成本同时做到可商业化。
GaN 外延技术、衬底技术以及封装技术也在持续升级。GaN-on-QST、GaN-on-GaN 等新型技术路线正在探索更高电压和更高性能应用。Yole此次报告的公开摘要也特别提到high-voltage GaN、bidirectional switches、integrated modules等技术方向。
制造格局趋于多元化
制造格局变迁是这份报告的核心结论之一。行业并未向某一家头部代工厂集中,反而呈现分散化发展态势:
台积电正准备逐步退出GaN代工服务,并将相关技术经验通过授权方式转移给世界先进(VIS)和格芯(GF);
格芯(GlobalFoundries) 已获得台积电650V和80V GaN技术授权,并在美国推进相关工艺和产品开发;
世界先进(VIS) 与力积电(PSMC) 承接了不少从台积电转出的GaN制造需求;
三星(Samsung)、DB HiTek、SK Keyfoundry 也在韩国搭建GaN初期生产能力;
与此同时,英飞凌、瑞萨、安森美、意法半导体、罗姆、安世半导体等IDM厂商持续自建产能,大多通过收购方式推进垂直整合。
Yole Group半导体衬底与材料首席技术市场分析师邱柏顺(Poshun Chiu) 对此评论道:“台积电收缩GaN代工业务,外界本可能将其视作行业预警信号。但恰恰相反,这成为整个生态走向成熟最明确的标志之一。其他代工厂正在快速跟进,制造基地比以往更加分散。
编辑:芯智讯-浪客剑
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