北京
文/布鲁斯
9月30日，国家知识产权局集中发布与集成电路布图设计制度修订相关的多份文件：公布《集成电路布图设计保护条例实施细则》（局令第86号）、审查业务过渡办法（公告第694号）以及修订后的《集成电路布图设计审查与行政裁决指南》（公告第695号）。其中，过渡办法自2026年10月15日起施行；实施细则和新指南自2026年10月30日起施行，2019年发布的相关试行指南同时废止。
此次制度调整与国务院修订后的《集成电路布图设计保护条例》衔接实施。对行业最关键的影响，主要集中在以下方面：
一是明确“申请日”适用规则。2026年10月15日以后（含当日）提交的登记申请及由此产生的专有权，适用修订后的条例；此前申请原则上适用旧规则，但过渡办法规定的特殊事项除外。企业、代理机构应重点核对申请日、补正节点及后续权利手续，避免新旧规则适用错误。
二是登记申请材料和诚信审查要求明显强化。申请人需提交布图设计复制件或者图样、独创性声明等材料；独创性声明应指明具有独创性的部分，并说明其结构改进、实现功能及独创性理由。新指南明确，独创性部分通常应包括能够实现独立电子、光子或量子功能的区域，并在图样中具有相对清晰、可划分的边界。申请应以真实创作活动为基础，弄虚作假的，可能面临驳回或者撤销登记。
三是权利稳定性和确权救济机制进一步完善。任何人均可针对不符合规定的布图设计登记提出撤销请求；复审、撤销程序由国家知识产权局统一承担，并可进行口头审理。申请人还可依法请求恢复权利、延长指定期限。需要注意的是，复审请求一般应在收到驳回决定之日起3个月内提出，登记申请相关通知书的答复期限一般为2个月。
四是专有权运用和融资功能得到制度化支持。修订内容明确布图设计专有权转让、向外国主体转让、许可使用合同备案及质押登记等手续。许可合同生效后，应在3个月内办理备案；符合条件的质押登记，国家知识产权局原则上在收到申请文件之日起5个工作日内审查决定。对芯片企业而言，布图设计专有权将更便于进入许可交易、技术出口和知识产权融资体系。
五是侵权行政裁决规则更加清晰。国家知识产权局可应权利人或者利害关系人请求处理布图设计侵权纠纷，并可就赔偿数额组织调解。侵权比对以登记的复制件或者图样为基础，独创性声明用于解释独创性；权利人应明确主张保护的独创性部分。新指南进一步明确“接触＋实质相同”的判断路径：被控产品全部或者部分包含与受保护布图设计相同或实质相同的设计，且具备接触条件并无合法来源证明的，可能被认定侵权。设计思想、处理过程、操作方法和数学概念本身不属于布图设计专有权的保护范围。
对集成电路企业、芯片设计机构及知识产权服务机构而言，下一步应重点做好三项准备：及时梳理存量申请并按申请日区分适用规则；重新建立独创性区域标注、创作过程留痕和样品保存机制；在许可、质押及侵权维权中，围绕登记图样和独创性声明准备证据。尤其是在新规实施后，能否清楚界定并证明“独创性部分”，将直接影响登记确权、权利交易和侵权比对结果。
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