北京
作者｜章启明
编辑｜王以沫
产品结构升级，高毛利设备驱动利润高增
10月28日晚间，拓荆科技（688072.SH）披露2026年三季报。公司Q3单季营收同比小幅增长，归母净利润大幅上行。作为国内薄膜沉积设备龙头，当期利润高增受公允价值变动收益、规模效应带动；长期看，高端设备持续导入、产品结构优化，自主可控进程持续推进。
营收平稳，盈利高增
2026年第三季度，拓荆科技实现营业收入23.08亿元，同比增长1.84%；归母净利润10.88亿元，同比增长135.39%，扣非归母净利润5.61亿元，同比增长33.63%，基本每股收益3.75元。
前三季度，公司累计营收52.20亿元，同比增长23.70%；归母净利润24.31亿元，同比增长336.79%，扣非归母净利润9.29亿元，同比增长102.66%，整体经营质量显著提升。
图片来源：拓荆科技公告
单季营收增速平缓、归母净利润大幅攀升，是半导体设备行业典型的阶段性结构性特征。行业采用验收制确认收入，各季度验收设备的制程结构、产品毛利存在自然波动。
本季度归母净利润高增，一方面来自生产规模效应释放，新产品、新工艺设备量产应用带动主业毛利率提升；另一方面受益于交易性金融资产公允价值变动带来的非经常性收益。扣非盈利改善，体现主业盈利能力持续优化。
单季营收波动并不代表下游需求走弱。晶圆厂设备采购、交付、验收周期较长，跨季度节奏差异显著，短期营收表现不具备趋势性。扣非利润稳步修复，印证公司产品结构升级逻辑持续落地，业务重心由成熟制程向高端制程切换，盈利中枢稳步上移。
现阶段，拓荆科技已完成产品迭代升级，高端存储、逻辑制程设备逐步实现规模化导入，成为业绩增长的核心驱动力。
核心稳固，品类扩张
拓荆科技是国内薄膜沉积设备核心厂商，其PECVD、ALD、CVD等设备，与光刻、刻蚀设备共同构成晶圆制造三大核心工艺，为芯片生产刚需设备。公司产品覆盖逻辑、存储、先进封装、硅光、传感器等多领域，产品线布局完整。
其中，PECVD、ALD设备构成公司基本盘，已在国内多条12英寸晶圆产线稳定量产，工艺可靠性得到下游验证。伴随存储芯片堆叠技术迭代，公司适配高阶工艺的薄膜设备持续升级，匹配高端芯片制造需求。同时，自研混合键合设备多款机型已通过客户验证、实现产业化，新一代高速高精度机型持续推进客户端验证，卡位三维集成、先进封装赛道，构筑全新成长空间。
在主业迭代之外，拓荆科技拟收购无锡尚积，补齐PVD、干法刻蚀等关键设备短板。交易落地后，公司将从单一薄膜设备供应商，逐步升级为多工序平台型设备企业，打开中长期成长天花板。
从经营现状看，行业高端设备研发、客户验证周期偏长，新品放量需要持续爬坡。同时上游核心零部件国产化仍在推进，供应链稳定性依旧是行业共同面临的挑战。整体来看，公司主业基本盘扎实，新品储备丰富，长期成长路径清晰。
替代加速，周期并存
国内半导体设备行业的核心成长逻辑，依旧是产业链自主可控背景下的国产替代。受海外技术管控影响，国内晶圆厂持续提升设备国产化率，薄膜沉积设备作为核心刚需设备，替代空间充足。
产业端，AI算力发展带动存储、高端逻辑芯片扩产，芯片堆叠层数持续提升，大幅增加薄膜工艺使用频次，持续拉动高端设备需求，行业中长期需求景气向好。
与此同时，半导体设备行业周期性特征显著，晶圆厂资本开支随终端芯片行情、库存水平动态调整，会阶段性影响设备采购节奏。高端制程技术壁垒高、验证标准严苛，新品商业化落地仍存在不确定性。
对于拓荆科技而言，短期业绩看点集中在高端设备持续放量、毛利率稳步修复；中长期价值依托多品类设备拓展、先进封装设备产业化落地。
综合来看，拓荆科技三季度业绩呈现结构性分化。受验收节奏影响营收小幅波动，扣非盈利改善反映主业产品高端化、规模效应持续兑现。随着平台化布局持续落地、自主可控稳步推进，公司后续业绩成长具备可观空间。
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