上海
9月22日消息，三星显示正在评估一项可用于 OLED 无偏光片（CoE）工艺、能够减少光罩数量的新技术 ——半调黑 PDL（하프톤 블랙 PDL）。该技术可通过单次工序，同时生成单独工艺制造的黑色像素定义层（黑 PDL）与间隔柱，若导入产线，预计将大幅助力生产成本降低。
据业界 22 日消息，三星显示正在评估半调黑 PDL 材料，该材料可通过一次光刻工序同时形成黑 PDL 与间隔柱。此次开发的核心目标是减少光罩工序数量，以此降低 CoE 的制造成本，能够把 CoE 光罩工序由现有的 6 道缩减至 5 道。
CoE 技术是直接在 OLED 上方制作彩色滤光片以及外部光反射抑制结构，以此去除传统偏光片的技术。去掉偏光片之后，面板可以做得更薄，光效率也得以提升，但同时需要额外的光刻工序来完成彩色滤光片等图形化加工。
三星显示从 Galaxy Z Fold6 开始，就已经采用去除彩色滤光层黑矩阵（BM）的 CoE 结构。目前生产需要用到共计 6 张光罩，分别用于 PDL、间隔柱、RGB 光刻胶、保护层等工序。如果采用半调黑 PDL 技术，可以将 PDL 与间隔柱所用光罩合二为一，缩减为 5 张。
和传统方案最大的区别，在于黑 PDL 与间隔柱的成型次数。黑 PDL 用于划分 OLED 各个像素区域，同时吸收外部入射光线、抑制反光。间隔柱是高度高于黑 PDL 的凸起结构，作用是保持间距，避免面板内部上下结构发生接触。目前这两种结构，需要分别使用不同材料与光罩来制作。而半调工艺是涂布同一种材料后，依靠单张光罩同时制作出两种高度不同的结构。
技术关键在于调控光罩的透光率。半调工艺将光罩透光率分为 0%、20‑50%、100% 三档。不同区域接收的曝光光量产生差异，材料固化程度随之不同，借此仅通过一次光刻，就能做出高度不一样的 PDL 和间隔柱。
黑 PDL 负责划分像素、抑制外部反光；间隔柱凸起高度更高，维持面板内部结构间隙。过去因为二者功能、成型高度不同，必须分开加工，半调技术则把两者整合至同一种材料、同一套工序完成。
光刻工序包含材料涂布、曝光、显影等连续步骤。黑 PDL 与间隔柱工序合并后，连带对应的工序次数、设备运行时长、材料投入量都可以减少。简化 CoE 工艺，就能够缩短生产时长、降低制造成本。
三星显示已经针对供应三星电子旗舰手机的 OLED 面板，验证半调黑 PDL 的落地可行性。据悉，公司正考虑将该技术应用于明年推出的 Galaxy S27 Ultra。如果在出货量大的旗舰机型上采用半调黑 PDL，缩减光刻工序带来的降本效果会进一步放大。
但成败的关键在于良率。传统工艺可以分别对黑 PDL、间隔柱做工艺优化；半调方案却要依靠同一份材料、单次曝光，同时满足两种结构的厚度与高度指标。即便减少了工序，一旦厚度偏差、图形不良问题增多，降本收益就会被抵消。
一位业内相关人士表示：“已知该技术已经针对三星电子 Ultra 系列手机完成评估，下一代产品也在持续研讨。明年产品是否能够搭载，要等待工艺稳定性以及良率评估之后才能确定。”
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