展台前围了一圈人,有人掏手机,有人踮脚,有人干脆蹲下来看底座的铭牌。那台灰扑扑的大家伙没亮灯、没动静,却成了整个工博会半导体展区最堵的地方。牌子上写着八个字:极紫外光源,国产化率90%。放在五年前,这句话会被当成笑话;放在现在,欧洲同行连夜开了几场会。
这是2026年10月中旬的上海,第二十六届中国国际工业博览会的现场。推出这台样机的,是一家名字陌生得不像半导体公司的企业——朗道燧岩。背景扒开看,是家注册在上海的创业公司,拿了国投系基金的钱,低调做了几年。谁也没想到他们第一次高调亮相,就直接端出了这个东西。
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讲清楚它为什么让人瞪眼之前,得先说说"13.5纳米"这个数字到底有多难对付。打个比方,这个波长的光娇气到见空气就被吸掉,普通玻璃也拦不住它,自然界压根儿没有现成的灯泡能发出这种光。想要用它来刻芯片,只能人工"造"出来。
造的办法,像一场高速打靶游戏。真空腔里,熔融的锡被喷成一粒粒比头发丝还细的小液滴,每秒五万粒往外射。激光先一发把液滴打扁成一张小薄饼,紧接着再补一发,把它炸成几十万度的等离子体。就在那一瞬间,13.5纳米的光被辐射出来。整个过程重复几天几夜不许失手,谁家工程师能顶住,谁就拿到了入场券。
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ASML能站上今天这个位置,背后不是一家公司的功劳。1997年美国能源部牵头成立EUV LLC联盟,拉着英特尔、AMD和三个国家实验室一起烧钱。后来德国通快提供数万瓦的激光器,蔡司磨那套原子级平整的反射镜,美国Cymer搞定光源控制,荷兰人负责组装。整条链子横跨大西洋,缺一个环节都转不动。
西方的傲慢也是从这儿来的。他们觉得这种"全世界攒局"的游戏,中国一个国家凑不齐。ASML前任CEO当年公开讲过类似意思:图纸给你都没用。背后的潜台词是,你总不能把德国的通快、日本的信越、美国的Cymer全都复制一遍吧。
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然后制裁来了。原本中国的晶圆厂习惯买国外成熟设备,国产零件没机会上机验证,一直陷在"没人用就没数据,没数据就没人用"的死循环里。出口管制一出,这个循环被硬生生砸断了。买不到就只能自己造,国产设备从"候补"直接被推到"主力"的位置上。
朗道燧岩这次展出的,技术路线和ASML走的是同一条,叫激光等离子体方案。展台工作人员对解放日报的记者说,样机的核心部件绝大部分是自己研发的,可以用于芯片曝光测试。90%这个数字,意味着从超高功率激光器、超高真空腔体,到锡滴发生器、多层膜反射镜,几乎都在国内把供应链补齐了。
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这里要特别冷静地看一组对比。路透社、南华早报和TrendForce的报道都提到了同一组数据:这台样机目前的EUV输出功率在15瓦以上,能连续运转100小时。而ASML量产线上用的光源,2018年就做到了250瓦,近两年还演示过1000瓦的实验机型。差距明摆着,没必要回避。
公司自己也说得挺实在。他们把产品分成两档,低功率那款已经进入商业化阶段,高功率的那款眼下还只是原理验证。要真正走到大规模量产的那一步,朗道燧岩自己给的时间表是三到五年。这个判断,和今年年初中芯国际创始人张汝京在接受采访时的说法基本吻合。
所以严格说,这不是"追平",更像是"摸到门把手"。但半导体这行有条铁律:原理样机能跑起来,和原理样机跑不起来,是两种完全不同的处境。前者是工程问题,剩下的靠砸钱、砸人、靠一轮轮迭代去推。后者是物理和材料学的死胡同,再多钱也未必推得动。
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南华早报的记者在现场采访时注意到一个细节:很多路过的观众其实不懂展牌上写的是什么,但半导体圈内的人一看就不走了,有的人在那站了十几分钟,拿本子记。有位设备厂的工程师对记者说了一句挺有意思的话——以前觉得这事儿是"猴年马月",现在觉得可能是"下个五年"。
当然,往乐观里讲也得留一只眼睛看问题。光刻机四大核心系统,光源、光学镜头、双工件台、真空系统,光源的难啃程度大概占了整机的一半,但也只是一半。日本厂商在光刻胶、靶材、高纯化学品这些上游环节上还握着不少关键专利,整条产业链上有一百多个节点要打通,光源点亮不等于全局贯通。
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但有一件事是可以确认的。过去三十年里,EUV这个"神仙局"之所以让西方睡得踏实,前提是没有哪个单一国家能在本土把这盘棋下完。ASML的厉害,在于它整合了全世界最好的零件;它的软肋,也在于一旦某个环节被地缘政治切断,整台机器就是一堆昂贵的废铁。
朗道燧岩这台样机想证明的是另一种可能性——不靠全球拼图,靠一个国家把这盘棋自己下完。目前只是开了个头,功率要提、寿命要延长、还得和整机做联调,每一关都不轻松。但那堵曾经被反复宣告"翻不过去"的墙,确实已经出现了可见的裂缝。
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展馆外头,上海秋天的阳光斜斜打在玻璃幕墙上。展台里的那台机器安安静静,看不出什么波澜。可但凡在这行干过几年的人都明白,当那束13.5纳米的光,有一天真的在中国自己的晶圆厂里连续亮上几个月,整个行业的游戏规则,就得重新写一遍。
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