北京
国家知识产权局信息显示，聚时科技（上海）有限公司申请一项名为“一种纳米级及不规则形态缺陷识别方法及装置”的专利，公开号CN122928708A，申请日期为2026年6月。
专利摘要显示，本申请涉及半导体检测技术领域，为一种半导体芯片检测方法，具体为一种纳米级及不规则形态缺陷识别方法及装置。通过以视觉Transformer作为主干图像编码器，针对纳米级缺陷尺度小、局部纹理弱、边界不连续和高分辨率图像计算量大的特点，对编码器结构进行层级化和局部增强设计：先通过重叠图像块嵌入保留相邻图像块之间的边缘连续性，再通过多级Transformer编码阶段分别提取浅层纹理、中层形态和深层全局语义特征，并将各级输出特征输入特征金字塔模块进行融合；随后设置形变卷积分支提取缺陷轮廓特征，并设置分割输出分支将特征金字塔特征与编码器最后一层语义特征相加融合后输出分割结果，从而实现对纳米级缺陷及不规则形态缺陷的精准识别。
天眼查资料显示，聚时科技（上海）有限公司，成立于2018年，位于上海市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本1828.7703万人民币。通过天眼查大数据分析，聚时科技（上海）有限公司共对外投资了6家企业，参与招投标项目7次，财产线索方面有商标信息159条，专利信息338条，此外企业还拥有行政许可2个。
声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。
本文源自：市场资讯
作者：情报员
特别声明：以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布，本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.
